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ホットプレート

低温から高温、大気及び真空での使用に対応したヒーターです。
均熱温度分布を重点に製作しています。

特長

仕様設計時に綿密な熱設計をおこない、広範囲な均熱性を重視した仕様解析をいたします。
熱安定性、再現性を考慮して製作しています。
仕様により要求温度に対応できる発熱体と熱板材質を綿密に選定して製作いたします。

商品に関するお問い合わせ、オーダーメイドなど各種お見積り依頼やお問い合わせはこちらからお気軽にどうぞ。

用途

半導体ウェーハ製造加熱用、液晶ディスプレイ基板加熱用
CVD、スパッタリング、プラズマエッチングの熱処理用
プラスチック、ゴム等の予熱・成型ホットプレス金型
各種化学機器、試験装置の加熱基盤
電子材料、新素材の開発試験用

製作仕様（全品受注生産）

温度範囲	～900℃
熱板材質	アルミ、SUS304、SUS316L、ハステロイC、インコネル600、石英
表面処理	アルマイト、タフラム、ニッケル、クロム等処理
使用雰囲気	大気中、真空中、不活性ガス及び各種処理ガス中
温度分布濃度	仕様要求温度に応じて有効ゾーン内設定温度の±1%（℃）可能
温度センサー	主にシース熱電対を熱板内に設置使用

付属関連製品・部品

温度制御盤：PID　制御（オートチューニング制御方式）/ON-OFF制御等
リフレクター：必要枚数
端子形状：Oリング、ハーメチック、フランジタイプ
電流導入端子 (真空端子)：各種電流導入端子(真空端子)

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