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ExLASER®(エックス・レーザー)

ExLASER® は多機能型レーザー平面瞬間加熱装置です。

特長

  • 超高速な昇温降温が可能
  • 2インチ基板を1ショットで均一加熱
  • 被加熱対象物のみへの直接加熱が可能
  • プロセスに合った温度制御が可能
  • 雰囲気を加熱せず省エネを実現

お見積り・お問い合わせ

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用途例

  • MBE装置の基板加熱
  • ウェハーのアニール(SiC、GaAS、etc.)
  • 多層構造デバイスの表層アニールが可能(微細化デバイス対応)

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実績例

独立行政法人 日本原子力研究開発機構 様
レーザ出力:100W
本体サイズ:H251×W200×D253(mm)

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レーザー加熱実験

EXL-CT-010DS55を用い、真空チャンバー中に設置した試料をレーザー加熱。試料の裏面(レーザー照射面と反対側)から温度分布を測定した。

1. サファイア基板 (φ2インチ) --- 透明基板への適用

温度分布

サファイア基板の温度分布
(レーザ出力 : 1000W)

急速昇温降温

サファイア基板の急速昇降温(平均基板温度)
(レーザ出力 : 1000W)

2. 温度傾斜 --- コンビナトリアル用光学系の使用

温度分布

金属板の温度分布
(レーザ出力 : 86W 集光)

温度傾斜グラフ

金属板の温度傾斜

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標準仕様

型番:EXL-CT-010-DS55
レーザ照射方式 ダイレクトタイプ 本体サイズ H 625mm ×W 700mm ×D 320mm
レーザ出力 最大 1kW 付属品 専用チラー
レーザ波長 808nm 定格 本体:1P200V20A
チラー:1P200V15A
レーザ形状 正方形
光学系(均一度) ホモジナイザ (±5%) 備考 JST独創モデル化
開発製品(H17年度)
加熱面積 □ 55mm
ワークディスタンス 400mm~

※上記は標準仕様です。お客様のご要望により変更が可能です。

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オプション ※ご要望に応じて製作させていただきます

  • 真空チャンバー
  • 温度制御ユニット
    ・放射温度計
    ・デジタル指示調節計
    ・赤外線透過窓
  • 基板ホルダー (2インチ基板用)
  • コンビナトリアル用光学系、専用基板ホルダー(□10mm基板対応)
  • 各種基板 (サファイア、シリコン、GaAs、 etc.)

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カタログ

こちらからExLASER®のカタログ(PDF)をご覧いただけます。

カタログ(PDF)日本語
カタログ(PDF)English

  

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